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        PI 膜石墨化爐

        發布時間:2020-06-19󰇰瀏覽次數:402
        PI 膜石墨化爐

        PI 膜石墨化爐是我廠工程技術人員消化和吸收國外***的測溫、控溫技術、智能化、新材料技術和爐膛設計技術,推出的一項特別碳素材料行業(工藝允許也可適用于其他行業)的高性能智能化電爐。


        ●用途:    

        應用碳素材料的燒結,PI 膜石墨化,導熱材料石墨化、碳纖維繩的燒結,碳纖維燈絲的燒結石墨化及其它可在碳環境下燒結和熔煉的材料。


        ●特點:
        3000℃以內超高溫爐體,可完全滿足各種材料的燒結和石墨化。
        采用數顯化智能控溫系統,全自動高精度完成測溫控溫過程,系統可按給定升溫曲線升溫,并可貯存二十條共400段不同的工藝加熱曲線。
        采用內循環純水冷卻系統;數字式流量監控系統,爐體轉換采用高性能中頻接觸器;全面的PLC水、電、氣自動控制和保護系統。

        ●主要技術參數:
        **使用溫度:3000℃
        高溫區容積:0.01m3、0.02m3、0.03m3、0.05m3、 0.1m3、 0.15m3、0.2m3 、0.3m3 、0.5m3、0.8m3
        爐內工作氣氛:真空、氫氣、氮氣、惰性氣體等
        溫度均勻度:≤±10℃
        溫度測量:遠紅外線光學測溫
        測溫范圍1000~3000℃或600~3100℃
        測溫精度:0.2~0.75%
        溫度控制:程序控制和手動控制; 控溫精度:±1℃
        極限升溫速度:50℃/分鐘(空爐,視高溫區容積和爐膛結構而定.

         

         

        參數名稱 

        單位

        KGPS -160

        KGPS -200

        KGPS -250

        KGPS -250

        KGPS -250

        坩堝有效容積
          (直徑×高)

        mm

        Φ200×300

        Φ350*600

        Φ400*1000 

        Φ500×1000

        Φ600×1000

        中頻電源功率

        Kw

        160

        200

        250

        250

        250

        中頻電源頻率

        Hz

        4000

        4000

        2500

        2500

        2500

        **工作溫度

        ℃ 

        3000

        3000

        3000

        3000

        3000

        極限真空度

        Pa

        1.2×10-1 

        1.2×10-1 

        1.2×10-1 

        1.2×10-1 

        1.2×10-1 

        壓升率

        Pa/h

        2

        2

        2

        2

        2

        恒溫區溫差

        ℃ 

        ±10

        ±10

        ±10

        ±10

        ±10

         


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